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三星SK海力士偷偷测试中国设备,70岁半导体大佬的话被验证

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文/王新喜

8月5日路透社抛出重磅消息:三星、SK海力士正在中国工厂评估测试中微公司的刻蚀设备,用来对冲美国出口管制的风险。随后三星否认说从未考虑,海力士拒绝评论。这种事,向来是做了也不能说。



这事的讽刺感在于,美国拉着盟友搞半导体封锁,本来是要卡死中国芯片产业,结果先把自己的盟友逼得偷偷找中国设备当备胎。

目前三星在西安运营着大型NAND闪存芯片工厂,SK海力士则在无锡与大连分别布局了DRAM与NAND生产线。



这些中国工厂在生产过程中高度依赖美国应用材料、泛林集团等西方巨头提供的刻蚀与薄膜设备。

过去几年,美国的管制一步步收紧。先是给韩企中国工厂发了“验证最终用户”豁免,2025年直接取消资格,改成一年一签的临时许可。

一旦华盛顿未来收紧出口许可,限制范围从新设备采购延伸至已安装设备的维修、保养或零部件更换,工厂将陷入瘫痪。



对存储厂来说,产线停一天都是损失按亿算。找一个不受美国管制的备用供应商,不是选择题,是生存题。

知情人士透露,测试大概两年前就启动了,刚好是美国第一次收紧许可的时候。这说明韩企早就留了后手,它们需要提前确认,一旦原有设备无法继续获得支持,中国设备能不能让生产线运转下去。

订单在手的中微公司

刻蚀领域,中微早就不是“能用就行”的水平,已站到了全球第一梯队,是唯一能够量产5nm刻蚀设备并进入台积电、三星等国际一线晶圆厂供应链的国产企业。



如果光刻机相当于在纳米尺度上“画图”,刻蚀机就负责按图纸把多余的材料精准刻掉。

尹志尧早年在美国硅谷应用材料公司任副总裁时,就已掌握最前沿的等离子体刻蚀技术,他坚信中国必须拥有自己的底层装备。

但设备研发最痛苦的不是画图,而是验证——每一种新刻蚀工艺都得在晶圆厂跑通数万次工序,任何瑕疵都会毁掉整批晶圆。



中微在2023年12月正式决定进入一个此前完全依赖进口的大平板设备领域,该设备共有17种关键工艺装备全部进口,而中微的目标是实现全链条国产替代。

按照尹志尧的经验,开发这样的设备至少需要3-7年。但中微团队只用12个月就从一张白纸做出了可运转的设备,18个月就运到生产线上并通过核准。

长江存储被列入实体清单后,全面加速国产设备导入,给了中微一个最苛刻的实战考场:高端存储的工艺复杂度、设备稳定性要求,比普通成熟制程高一个量级。



几年跑下来,在国内存储厂的刻蚀设备采购中,中微的占比持续攀升,存储刻蚀收入已经占到总营收的35%-40%。

随着国内晶圆厂为应对AI算力需求而加速扩产先进制程,中微公司作为核心设备供应商,订单已排至2027年。

它的核心王牌CCP介质刻蚀设备,已经覆盖5nm及更先进制程,在长江存储、长鑫存储、中芯国际的产线上大规模量产验证过。

尤其是存储芯片的超高深宽比刻蚀,这是3D NAND堆叠、DRAM电容结构的核心工艺,中微的设备性能和良率,已能对标泛林、应用材料的同级产品。

它的成熟刻蚀产品毛利率稳定在46.5%,和泛林、东京电子的同类型产品处于同一区间。

在国内存储厂的刻蚀设备采购里,中微仅存储刻蚀的收入就占到了总营收的35%-40%。



“国产设备靠低价抢市场”的老黄历,在刻蚀这个环节已经翻篇了。

这充分说明了,中国的市场和产能,能喂出自己的设备产业。

中芯国际、长鑫、长江存储一年资本开支加起来超百亿美元,海量的订单、全场景的量产验证,是设备企业最好的练兵场。

长江存储被列入实体清单的时候,很多人觉得要完,结果倒逼它全面导入国产设备,给了中微、北方华创这些企业最宝贵的量产验证机会。

过去国产设备没机会上线,现在有国内晶圆厂托底,在真实产线上迭代优化,技术成熟度自然越跑越快。



中微没满足于“刻蚀单项冠军”。从刻蚀单点突破,快速横向扩张,往薄膜沉积、化学机械抛光(CMP)、湿法清洗等多个前道核心品类延伸,目标是做一站式的前道设备平台。

这条路很难,但一旦跑通,天花板会比单一设备厂高得多。现在它的第二增长曲线已经跑出来了。

LPCVD、ALD薄膜设备2025年销售额同比暴涨224%,累计出货突破300个反应台,钨基薄膜已经通过存储客户量产验证,拿到了批量复购订单。

除此之外,它通过并购杭州众硅切入CMP赛道,湿法设备也在持续导入客户产线。短短几年时间,已经从“只会做刻蚀”,变成了覆盖四大前道核心工序的综合供应商。

国产=低端的时代翻篇,尹志尧与张汝京的话被验证

中微公司突破了在刻蚀机上被人卡脖子的短板,但70岁半导体大佬尹志尧过去谈到国产设备被卡脖子时候,他认为最大的短板不是技术,而是国内厂商先入为主迷信国外设备。



三星、SK海力士被曝测试中微的刻蚀设备背后,一个信息是,如果国产设备良率没有达到顶尖水平,无论美国政策怎样收紧,跨国企业都不会拿真实产线冒险。

这充分说明,行业已经变天了。五年前没人会讨论“韩企会不会用中国刻蚀设备”,因为显而易见的不可能。

现在巨头的备份测试与大家开始认真讨论这件事,说明中微的技术实力,已经到了“全球一线巨头厂商备选”的级别。



这验证了尹志尧当年的判断:由于长期形成的路径依赖和刻板偏见,大家默认“先进设备只能买美日的”。但事实上,国产的性能已经追上来了,问题在于,一些人不敢用、不愿用、不想试。

但打破偏见的唯一方式,就是把产品做过硬,在量产线上跑出不输给对手的指标。

当你真的能做到同性能、同可靠性,甚至交付更快、服务更好的时候,不用你去说服谁,客户自然会用脚投票。

这也同时验证了另一位70多岁的半导体大佬——中芯国际创始人张汝京过去在采访中说的话,在半导体行业取得成功就必须能够制造3nm或2nm芯片,这是一种误解

他认为,瞄准特定细分市场才是更为重要的发展方向。



一颗芯片从设计图纸到量产上市,涉及几十个工序、上百种设备、上千种材料。任何一个环节的缺失,都会让整条链条断裂。

我们需要的不是很多瞄准3nm或2nm设计的大而全的公司,而是需要那些非常清晰与垂直的,产业链上不可或缺的专而精的公司,专业化非常强的公司。

中微就是这样的公司。从数据来看,刻蚀、薄膜沉积、清洗等设备国产化率达 30%-40%,部分中低难度设备突破 50%。半导体设备国产化率的增长,很大程度是来源于中微这类细分领域的专业公司的突破。



我们芯片产业链在光刻机、EDA工具、先进材料、AI赛道等关键环节仍然存在不小瓶颈,在设备、材料、制造、封测、设计软件、高精度零部件领域,只有越来越多细分市场的公司做大做强,才能把我们的半导体产业推向巅峰。

半导体产业链上众多精而专的公司不断崛起,成长为中坚力量,才是未来我们在科技产业不断突破,成就科技强国的关键。

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