广东
8月20日晚间，国内半导体薄膜沉积设备龙头拓荆科技（688072.SH）披露2026年半年度报告，交出一份极为亮眼的成绩单。受益于先进制程领域产品的持续突破与规模化量产，公司上半年营收与净利润均实现大幅增长，其中归母净利润同比增幅高达1324%。
财报显示，2026年上半年，拓荆科技实现营业收入29.13亿元，同比增长49.06%；实现归属于上市公司股东的净利润13.43亿元，同比增长1324.10%；扣除非经常性损益后的净利润为3.67亿元，同比增长861.92%。公司总资产达到253.12亿元，较上年末增长27.69%。
对于业绩的爆发式增长，拓荆科技表示，主要系在先进制程领域的产品拓展与量产应用取得突出成果，业务规模和收入快速增长。其中，核心产品PECVD系列设备在先进存储、先进逻辑领域的Stack（ONO叠层）、ACHM系列工艺等产品进入规模化量产阶段；ALD系列设备在先进存储领域量产规模快速攀升，多台PE-ALD SiO₂、SiCO等工艺设备完成客户验证并实现收入转化。
需要指出的是，拓荆科技上半年归母净利润大涨还得益于非经常性损益的巨大贡献。财报显示，拓荆科技上半年交易性金融资产产生的公允价值变动收益较上年同期增加约了9.60亿元。
尽管归母净利润的爆发式增长包含了约9.60亿元的非经常性损益贡献，但更能反映公司核心主业盈利能力的扣非净利润，在营收高增和毛利率提升的带动下，亦实现了861.92% 的强劲增长，达到3.67亿元。
此外，报告期内，拓荆科技的营业成本增幅（29.24%）远低于营收增幅，毛利率同比提升约9个百分点至41%，毛利较上年同期增加约5.70亿元，也反映了拓荆科技盈利能力的显著增强。
经过多年深耕，拓荆科技目前已形成PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD、Flowable CVD等薄膜沉积设备产品线，并拓展至三维集成领域，产品广泛应用于逻辑芯片、存储芯片、先进封装等领域。
在三维集成设备方面，公司持续拓展新产品，包括芯片对晶圆熔融键合、键合界面空洞修复等产品，并拓展了多个新客户，产品已覆盖先进存储、先进逻辑、图像传感器等多个领域。
产能建设方面，拓荆科技募投项目“高端半导体设备产业化基地建设项目”（沈阳二厂）已完成主体结构封顶，预计于2028年投入使用，规划总建筑面积超15万平方米。
研发投入方面，上半年拓荆科技研发投入达4.23亿元，同比增长21.09%，占营收比例为14.52%，其中研发投入资本化的比重为18.72%。截至报告期末，公司研发人员达856人，占员工总数的41.78%，累计申请专利2,245项。
截至报告期末，公司累计出货反应腔超过3,800个（含超过480个新型反应腔），进入约100条生产线，设备在客户端产线累计流片量约6亿片，平均机台稳定运行时间（Uptime）超过90%，达到国际同类设备水平。公司表示，目前在手订单饱满，可为全年交付与业绩增长提供坚实支撑。
在交出亮眼成绩单的同时，拓荆科技拟向全体股东每10股派发现金红利3.50元（含税），合计拟派发现金红利约1.01亿元，该方案尚需提交股东会审议。
编辑：芯智讯-浪客剑
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