陕西
光刻胶是半导体光刻工艺的核心材料，其内部微小颗粒杂质会直接造成晶圆光刻缺陷、电路短路等问题，是影响芯片良率的关键因素。光刻胶介质具备粘度特殊、成分复杂、油水混合特性明显等特点，常规颗粒检测设备难以适配其检测需求，存在小粒径颗粒识别不全、介质适配性差、数据误差大等问题。作为油液颗粒检测领域技术创新引领者，普洛帝针对性研发PMT-2光刻胶颗粒计数器，搭载第八代双激光窄光检测技术，聚焦0.1μm微纳米级颗粒检测，支持油水双系介质检测与定制化功能适配，严格遵循ISO4406、NAS1638、GJB420B检测标准，为光刻胶品质检测提供专业解决方案。
产品定位
PMT-2光刻胶颗粒计数器是面向半导体光刻材料检测的专用精细化检测设备，专为光刻胶、光刻配套介质的微颗粒检测打造。设备突破传统检测设备的介质局限，实现油水双系介质通用检测，主打0.1μm微纳米级微小颗粒捕捉能力，同时支持功能与参数定制化调整。设备适配光刻胶生产、分装、存储、制程使用全流程检测，可满足光刻胶出厂质检、生产线入料检测、制程在线监测、实验室抽样分析等多元化需求，是半导体光刻材料品质管控的专用检测设备。
核心技术
设备搭载普洛帝第八代双激光窄光检测技术，相较于常规激光检测方案，窄光光路聚焦性更强，光束直径更精细，可精准定位介质内0.1μm级微纳米颗粒。双激光并行检测架构，能够有效规避光刻胶胶体浑浊、成分复杂带来的光路散射干扰，提升微小颗粒的识别精度与计数准确性，可完整捕捉光刻胶内细微杂质颗粒，避免小粒径颗粒漏检。
油水双系适配技术是该设备的核心优势之一，通过优化检测腔体与进样系统结构，适配油性光刻胶、水性光刻胶及各类配套清洗介质的检测需求，解决了单一介质检测设备通用性不足的问题。同时设备支持定制化升级，可根据用户检测场景需求，自定义粒径检测通道、检测频次、数据输出格式、报警阈值等参数，也可适配特殊粘度光刻胶的检测调试，贴合不同企业的个性化检测需求。设备内置智能算法，可自动区分介质杂质颗粒与胶体成分，规避胶体本身特性对检测结果的干扰，保障数据稳定性。
技术参数表
检测模式
PMT-2光刻胶颗粒计数器搭载多元化智能检测模式，可适配不同作业场景的检测需求。常规抽样检测模式适用于实验室质检环节，人工取样后可快速完成颗粒计数、粒径分布分析，输出完整检测报告；连续在线检测模式可对接光刻胶生产线、输送管路，实现物料实时不间断监测，及时捕捉生产过程中的杂质波动；定点抽检模式可针对光刻胶存储罐体、分装工序进行定点取样检测，把控存储与转运环节的品质变化。同时定制化检测模式可根据特殊工艺需求，调整检测逻辑与参数，适配非标检测场景。所有检测模式均可自动留存数据，支持溯源查询，契合工业品质管控规范化要求。
应用场景
半导体芯片制造行业是设备的核心应用场景，可用于晶圆光刻制程中光刻胶的实时检测，把控光刻胶洁净度，减少光刻缺陷；光刻胶生产企业可用于产品出厂质检、生产过程物料监测，管控产品颗粒指标，保障产品品质一致性；半导体封装测试环节，可检测光刻辅助介质的杂质含量，规避杂质对封装精度的影响。此外，设备可适配光电显示、精密半导体器件、微纳加工等行业的光刻类介质检测，依托油水双系适配与微纳米检测能力，满足各类高精度制造场景的介质品质管控需求。
普洛帝PMT-2光刻胶颗粒计数器依托成熟的第八代双激光窄光技术，突破微纳米颗粒检测难点，兼顾通用性与定制化适配能力，贴合光刻胶行业精细化、规范化的检测需求。设备严格遵循行业通用检测标准，为半导体光刻材料品质管控、生产工艺优化提供扎实的数据支撑，助力高端精密制造行业品质升级。
光刻胶颗粒计数器
特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
