北京
近日，三菱化学宣布计划将用于半导体抛光剂原料的超高纯胶体二氧化硅推向商业化。公司表示，将在位于日本北九州市的九州工厂建立新的生产设施，预计将于2028年10月正式开启商业化运营。
据公司介绍，胶体二氧化硅在半导体制造中发挥着至关重要的作用，是用在硅晶圆表面抛光剂以及用于晶圆互连层的化学机械抛光液（的关键原料。电路布线层的抛光过程要求在实现纳米级平整度、确保无杂质并最大程度减少划痕的同时，具备极高的材料去除率。公司补充道，胶体二氧化硅颗粒的形状和物理性质必须针对被抛光的特定材料进行精确定制。
这款全新的超高纯胶体二氧化硅采用超高纯四甲氧基硅烷（TMOS）通过一体化工艺制造，从而将杂质含量降至最低。三菱化学表示，公司利用其先进的技术专长，能够对粒径和密度等参数进行定制，从而满足半导体制造商的特定需求。
随着半导体市场将迎来进一步增长——特别是在生成式 AI和数据中心等领域——三菱化学已将赋能先进数据处理和电信技术列为核心业务优先事项。
文章来源：氟化工有机硅CAFSI
整理发布：中国非金属矿信息平台（chinanmi）
编辑：魏博| 校对：李渴| 审核：彭春艳
培训通知
一、培训名称
2026粉体加工及应用技术培训（第六期）
二、培训时间
2026年9月
三、培训地点
四、培训内容
（一）粉体绿色加工工艺
功能矿物粉体产业背景与下游需求态势
粉体加工单元过程分析
设备选型与工艺协同
企业工程设计与生产实践案例分析
特殊需求特征粉体的最佳方案设计
（二）粉体表面改性技术
1. 粉体表面改性的原理
2. 表面改性剂及其用法
3. 表面改性工艺与设备
4. 表面改性样品的检测与表征
6. 粉体表面有机改性的应用
（三）无机粉体在塑料中的应用
无机填充剂对橡塑材料加工特性及制品性能的影响
无机粉体高填充母粒制备
应用案例
（四）无机粉体的阻燃应用
（五）多孔矿物粉体的吸附过滤功能化应用
（六）无机粉体在涂料中的应用
1. 涂料市场现状
2. 涂料应用过程技术详解
3. 涂料领域无机粉体未来发展趋势
五、培训对象
碳酸钙、滑石、硫酸钡、硅灰石、高岭土、氢氧化镁、氢氧化铝、白炭黑、云母、钛白粉等粉体加工企业；
改性剂、助剂、母粒、塑料、涂料等企业；
相关设备企业。
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