陕西
9月3日，《联合早报》援引彭博社报道，德国蔡司集团半导体部门负责人弗兰克·罗蒙德表示，中国可能还需要约15年，才能研发出成熟的EUV光刻机，他认为这是一个“合理的估计”。但与此同时，他也承认，中国相关技术的真实进展很难准确量化。
有人认为，中国距离EUV还有很长的路；也有人认为，15年只是西方根据过去经验做出的推测，并不能代表中国未来的真实速度。中国究竟已经走到了哪一步，以及接下来要跨过哪些真正的技术高墙，这是值得关注的。
先承认差距：EUV，中国确实还没有追上，差距很大，这一点没什么好回避的。
截至目前，ASML仍然是全球唯一能够商业化生产EUV光刻系统的企业，而蔡司则是ASML EUV光学系统的独家供应商。EUV采用13.5nm波长光源，用于先进芯片制造，是目前最复杂的半导体设备之一。
EUV背后的产业化历程非常漫长，据ASML官方资料显示，1997年正式启动EUV项目；1998年与蔡司等合作伙伴组建欧洲工业研发联盟，2006年，ASML才把第一批EUV演示系统交付给美国和比利时的研究机构。2010年，第一台NXE:3100预生产EUV系统交付给亚洲客户。2013年，NXE:3300问世；2015年推出NXE:3350。直到2016年，客户才开始批量订购第一款生产级EUV设备NXE:3400。
也就是说，从正式启动项目，到EUV真正进入生产阶段，中间经历了接近20年的漫长积累。ASML自己也明确表示，EUV技术开发耗时超过20年，公司在EUV研发上投入超过60亿欧元，并通过收购Cymer等方式补齐关键技术。
ASML背后站着一整个全球产业链，它最厉害的地方恰恰在于：能够把全球顶尖技术整合成一套可以进入晶圆厂生产的复杂系统。
我们如果要实现真正意义上的EUV国产化，目标绝不仅仅是一台机器，而是一整套产业体系。从光源，到光学；从零部件，到控制系统；从设备，到材料；再从设备进入晶圆厂后的工艺调试，到长期维护和数据反馈。每一环都必须补齐，这条路会很长，可能不是三年，也可能不是五年，甚至15年，也未必是最终答案。
所以未来相当长一段时间里，ASML依然会是光刻机领域最重要的霸主之一。今天的中国，面对EUV确实还有一座很高的山，但至少，我们已经开始爬山了。道阻且长，行则将至！
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