江苏
据投融湾获悉，近日，杭纳半导体装备（杭州）有限公司（下文简称：杭纳半导体）成功完成新一轮融资。本轮融资的投资方为银河创新资本、金沙江联合资本。
杭纳半导体创立于2022年7月，公司总部位于浙江省杭州市萧山区。杭纳半导体是国家高新技术企业，公司的核心定位为专注薄膜沉积设备研发制造的国产高端装备企业，主打磁控溅射PVD设备与真空蒸发镀膜设备，面向钙钛矿光伏电池、薄膜太阳能、半导体显示、电致变色器件等领域提供整套真空镀膜装备与配套工艺解决方案。
创始人来华杭
杭纳半导体的创始人是来华杭，深耕PVD磁控溅射设备、真空蒸发设备领域多年，拥有多年真空镀膜、薄膜沉积装备研发与产业化经验，主导公司全部核心镀膜装备的整机架构设计、真空系统、控制系统开发，作为第一发明人申请多项磁控溅射系统、多功能膜层相关发明专利。
四大类核心产品
杭纳半导体的核心产品包括：研发用磁控溅射单体机，面向高校、科研院所、企业实验室；连续式磁控溅射设备，是公司主力量产机型；阵列溅射镀膜设备，面向大尺寸G8.6代显示基板；点式蒸发源，配套真空蒸发设备VCD，用于钙钛矿、CIGS薄膜电池。
什么是薄膜沉积设备？简单点说就是，钙钛矿电池、显示屏、电致变色玻璃，都需要在玻璃基板上镀上一层甚至多层极薄的功能性薄膜，薄膜厚度只有几十到几百纳米，肉眼完全看不见。镀膜必须在高度真空的腔体里面完成，不能有灰尘、杂质，一旦混进空气，薄膜就会失效。杭纳半导体做的就是这套真空镀膜机器，行业叫做PVD物理气相沉积设备，也就是磁控溅射镀膜机，还有配套的真空蒸发设备。
四大核心技术
杭纳半导体拥有四大核心技术，其中，自研磁控溅射整机系统与真空腔体设计技术，优化腔体内部流场设计，保证基板上每一处的薄膜厚度均匀，大面积玻璃基板镀膜不会出现一边厚一边薄的问题。自主的设备自动化控制系统，HN-PVD-PLC-CODESYS自动化控制系统。整套设备的真空抽气、气体通入、靶材溅射、基板传送全部由这套软件控制系统自动完成，从玻璃基板上料、清洗、多层镀膜、检测，整套流程自动运行，减少人工干预，降低生产过程中的污染，提升产线良率。
薄膜工艺匹配技术，依托和浙江大学的联合实验室，针对钙钛矿电池材料特性，调试不同膜层的溅射参数，给客户提供设备+工艺一体化交付。多功能复合膜层制备技术，除了光伏领域，还开发太空光伏抗辐射膜层相关工艺，用于航天场景的光伏盖板镀膜，实现抗辐照、增透、电磁屏蔽一体化的薄膜制备，拓展装备在特种航天领域的应用场景。
国产替代空间巨大
目前国内钙钛矿产线的高端镀膜设备，大量依赖海外进口设备，设备价格昂贵，维护成本高，国产化替代空间很大。除钙钛矿之外，传统薄膜太阳能电池、电致变色玻璃、大尺寸显示面板，同样需要磁控溅射设备，这部分属于存量稳定市场。
未来，杭纳半导体将持续提升连续式PVD量产设备的稳定性，完成更多头部钙钛矿电池企业的设备验证，扩大量产线订单规模，同时拓展显示、特种航天薄膜等多元化客户，降低单一赛道波动带来的经营风险，助力新一代钙钛矿光伏产业链实现装备自主可控。
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