前沿导读
中国半导体设备厂商邑文微电子首席科学家叶国光在访谈中指出,在如今全球半导体设备厂商的规模排名中,荷兰ASML、美国应用材料、美国泛林集团分别包揽前三名。此前的第一名是应用材料,但是随着中国企业在前几年大量购买ASML的设备,所以现在ASML的规模变成了第一。
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中国企业从ASML手中采购的设备至少有1000台,其中包含了光刻机和其他配套设备,这些设备有一部分是拿来造芯片的,还有一部分是拿来给相关企业做研究用的。
千台设备
ASML中国区总裁沈波此前在接受《中国日报》采访时指出,2024年第一季度中国大陆地区为ASML贡献了49%的份额,是ASML全球最大的客户市场。ASML从1988年将首台设备运到中国之后,截止到2023年年底,ASML在中国的光刻机加上测量机台,其装机数量接近1400台。
这1400多台设备,是光刻机与测量机台的总装机量,至于这里面到底有多少台光刻机,沈波没有透露。
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参考资料:
荷兰光刻机巨头阿斯麦发布最新财报 来自中国大陆的净系统销售额占比高达49% - 中国日报网
美国对于光刻机的管控是循序渐进的,并没有像EUV那样一开始就全面封锁。
EUV设备是持续封锁的,哪怕是海外企业在中国大陆地区建设的合资工厂也不被允许获得该设备。而上一代的浸润式光刻机,美国分两个阶段实施封锁,先封锁NXT:2000i及以上设备,随后又在2024年封锁了NXT:1970i及以上设备,只要是新制造的浸润式光刻机,均不允许运送至中国大陆地区。
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而再差一些的干式DUV光刻机,美国没有对其实施出口管制。
根据ASML官方发布的声明显示,从发布禁令到正式实施,中间有几个月的缓冲时间。ASML可以在这个缓冲时间内继续向中国企业交付曾经下单但是未交付的产品,不允许在此期间建立新订单。
这个缓冲期,让中国企业获得了一定数量的光刻机以及其他配套设备。这些设备是中国企业在合法合规的情况下所获得的产品,并且没有违反美国“长臂管辖”所制定的出口管制。
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参考资料:
- Statement regarding export control regulations Dutch government | ASML
- ASML Q4 2023 - Financial results | ASML
这些设备有一部分是拿来制造芯片创造经济的,还有一部分是拿来进行技术研究的。
采购竞争对手的产品进行技术研究,这本身就是科技行业内非常普遍的情况。早年间的日韩半导体企业,很大程度上都是采用了这种“逆向工程”的方法才实现了技术进步。
技术研究
在日本尼康刚刚涉足光刻机产业时,背靠日本通产省推动的VLSI计划(超大规模集成电路),让日本NEC公司当做中间商,从美国GCA手里面采购了一台光刻机设备,随后尼康团队对其进行了技术拆解,采用“逆向工程”的方法掌握了光刻机设备的制造技术。
然后尼康便推出了自家的第一台光刻机SR-1,SR-1的技术标准与美国GCA的光刻机高度相似,但是尼康还在销售光刻机的同时提供一定程度的技术服务,这让尼康的光刻机开始在市场上获得青睐。
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据《人民日报》多年前发布的专栏报告指出,“逆向工程”之后的阶段是“正向工程”,这个阶段则是相关企业依托逆向工程所获的技术去开发自家的自主设备。
从1950年开始,日本生产的绝大部分工业品都存在模仿美国产品的情况。1970年前后日本进入逆向工程阶段,随后在1980年过渡到正向工程,这才实现了半导体产业和工业化的大爆发。
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同样采用逆向工程提升技术的,还有韩国三星。
三星的逆向工程与日本存在差异,三星会将同行的产品拆解之后,分析其功能特性,这个功能为什么这么设计,那个功能为什么这么设计,这样设计有什么用。
在三星搞懂功能之后,便开始对同行的产品进行不同程度的“加减”。通过组合多种现有的技术,三星制造出了大量畅销全球的产品。先通过逆向工程拆解对手的产品,搞懂对手的设计理念,然后在此之上进行自主化的创新设计,这是三星产品可以占领全球市场的核心因素。
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参考资料:
【三星研究】(六)在逆向工程中追求“兴奋”的感觉--财经--人民网
现在光刻机设备的复杂程度和设计难度,已经远远超出了曾经步进光刻机和投影光刻机的技术水平。
如果想用逆向工程的方法去复制一台ASML的先进光刻机,这非常不现实。ASML光刻机的子系统零件数量多,并且每一个子系统都有相关的技术专利,而且目前只有ASML公司拥有将所有子系统整合成整体并让其持续运行的软件技术。
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哪怕是通过逆向工程掌握了其所有子系统的制造技术,还有软件运行系统这个难题。运行软件当中涉及到晶圆工厂和设备制造商常年累计的大量数据指标,这些数据是支撑光刻机持续运行的核心技术。
中国企业手中的ASML光刻机,就如同三星当年的方法一样。先研究其技术设计,搞懂技术逻辑之后,用自己的技术方法以及供应链体系制造一台国产的光刻机,在根源上杜绝被卡脖子的风险。
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