美国怀疑中国有进口EUV光刻机，ASML彻查314台EUV后表示根本没有

前沿导读

据《电子技术应用》内容指出，美国商务部长卢特尼克在会议中对ASML提出质疑，认为其违规出口给中国企业EUV光刻机。该质疑遭到了ASML的否决，并且ASML在之前已经向美方提供了一份文件，文件指出ASML在全球运行的EUV光刻机总共有314台，其中26台已经退役，没有任何一台EUV光刻机处于中国大陆地区。

出口管制

ASML在反驳美国质疑的同时，还指出EUV的体量庞大，重量达到了180吨，相当于一辆双层巴士。该设备产能有限，而且只有ASML官方人员懂得如何使用设备，机器内部设有自动检测系统，有任何中断、异常行为都可以被实时追踪。未经ASML官方人员介入操作，客户无法自行移动、搬迁EUV系统。

ASML现任CEO克里斯托弗·富凯（傅恪礼）在5月份的采访中也表达了一样的观点，富凯称公司内部早已经建立了技术防火墙，中国员工无法接触到EUV的核心技术板块。而且对于中国工程师逆向EUV的舆论，富凯也反驳称：“你无法逆向工程一台你从未拥有的机器，而中国大陆没人拥有过它。”

“逆向光刻机”这个概念，在整个产业的发展历史上有过成功的先例，但是只限于早年间的步进光刻机。

尼康的第一款光刻机NSR-1010G，就是采用逆向工程从美国GCA（地球物理公司）手中“抢夺”来的制造技术。

当时美国GCA是光刻机市场的龙头，其全球市场常年保持50%以上的占有率。这种较高的市场占比，让GCA开始逐步自大并慢待国际客户。

很多时候都是优先供应美国芯片企业，而国外企业签订的采购订单一拖再拖，哪怕是国外企业的订单时间比美国企业更早，GCA也是优先供应美国本土客户。

随后日本尼康进入市场，通过日本电气公司（NEC）向GCA采购了一台光刻机，紧接着尼康对这台光刻机进行拆解分析，掌握了内部的制造技术。本身尼康就可以制造光学镜头，这直接让尼康顺利开发出了光刻机设备。

而ASML制造的EUV光刻机无论是软件技术水平，还是各个子系统的开发逻辑，均是整个产业内最精密的工程业务，集合了全球顶级资源完成制造，其复杂程度完全不是当年GCA和尼康的设备所能相比的。

光是EUV的曝光系统，全球只有蔡司能提供，并且蔡司已经在EUV曝光领域申请了超过1500项技术专利，这些专利是后来者很难逾越的大山。

在没有证据的情况下说中国团队逆向EUV光刻机是非常不合理的行为，好像中国团队正在用一种行业“敏感”的技术方法开发设备，这完全是造谣行为。

开发技术

在美国持续对ASML施压，禁止其向中国出口光刻机，并且对中国本土技术实施限制的同时，美国也在同步推进自己的EUV发展。

2025年10月，美国初创公司Substrate宣布推出一款新型芯片制造设备，准备在先进光刻设备领域跟荷兰ASML竞争。其公司CEO表示，推出设备只是第一步，下一步便是在美国建立芯片制造工厂，挑战台积电在先进制程领域的龙头地位。

12月，美国对本土初创企业xLight投资1.5亿美元，美国商务部将获得该公司股权，成为最大股东。xLight的目标并非是打造光刻机整机，而是在激光器领域实现技术突破。试图开发出能耗更低、光源更稳定的激光器，并计划将其接入ASML或其他厂商的光刻系统当中。

在持续推进美国本土EUV发展的同时，match法案的提出也进一步扩大对中国企业的限制。不仅限制ASML对5家中国企业出口所有的浸润式DUV光刻机，而且还施压东京电子等企业一起对中国企业实施禁令，禁止向5家中国企业提供所需的制造设备。

这种“一只手掐住对方咽喉，另一只手给盟友递刀子”的行为，完全是在影响全球半导体产业的发展。

ASML CEO此前表示，过于收紧光刻机对中国市场的出口管制，将会加速中国自主研发替代设备的步伐。

这句话并不是ASML CEO随口一说的外交话术，而是有实质性信息依赖的。

陈南翔、王阳元、赵晋荣等中国半导体产业一线人物在2026年科技导报的产业报告上面提到，上海微电子制造的浸润式DUV光刻机已进入测试阶段，其他本土企业的国产设备也都在稳步的推进当中，发展情况良好。

“实体清单”正在倒逼中国企业开发自主可控的国产设备，而美国持续对中国企业实施进口设备的出口管制，恰恰为中国的国产设备提供了一个非常合适的市场化条件。有了购买市场，设备才能运行起来，只有设备运行起来，才能找到其中的不足进行优化，一步步提升国产设备的技术指标。