你知道吗，显示屏里的这层薄膜，刚刚拿下了国家科技进步二等奖

昨日，2025 国家科学技术奖励大会在北京隆重举行。京东方以 “面向智能显示的先进氧化物技术研究及产业化应用” 项目荣获国家科学技术进步奖二等奖。

氧化物技术，听上去很陌生的词语组合，但一个 “面向智能显示” 的定语，一下子就让它变得熟悉了起来 —— 你的手机、电脑、显示器、电视机，日常使用的显示设备背后，都有着它的身影。

屏幕拆开，关键在最底下那层

一块屏幕的核心由两层功能结构构成，一层负责画面呈现，LCD 依靠独立的背光模组发光，通过液晶层调节光线透过率来成像；OLED 则靠有机材料自主发光。这一层决定了屏幕的色彩、对比度和可视角度，定义了画质的上限。另一层就是驱动层，也就是 TFT 背板，它直接控制着刷新率、拖影表现、功耗水平、可实现尺寸与制造成本，托住了用户体验的下限。

如果打个比方，画面呈现层相当于密密麻麻的灯泡阵列，驱动层则是控制每一盏灯明灭的开关矩阵。

一块标准 4K 屏有 800 多万个像素，每个像素包含红、绿、蓝三个子像素，对应着数量对等的 TFT 开关，也就是说，你每点亮一次屏幕，背后就有两千多万个 TFT 晶体管在同时协同工作。

所以，发光层决定画质上限，驱动层托底体验下限。

过去三十年，驱动层的核心材料主要走过两代路线，非晶硅和低温多晶硅。它们各有先天局限，卡在行业发展的路上很多年。

第一代非晶硅（a-Si），造价便宜但反应迟钝，电子迁移率只有 0.5–1 cm²/V・s，勉强能支撑 120Hz 刷新率，到 240Hz 就难以达标，无法满足高端高刷显示的需求。几百块的入门电视、显示器基本都采用这种方案。

第二代低温多晶硅（LTPS），响应速度飞快但工艺娇贵，通过激光退火能把迁移率拉到 50 cm²/V・s 以上，旗舰手机屏几乎都用它。但它工艺复杂、良率偏低，做大尺寸屏幕成本会大幅攀升，同时产线投资动辄数百亿，难以向全尺寸场景普及。

第三代就是氧化物半导体，代表材料叫铟镓锌氧化物（IGZO），2004 年由日本东京工业大学细野秀夫团队提出。它不是每一项参数都做到了素质顶尖，但是在速度、成本、漏电、尺寸四个核心维度上都能做到均衡无短板，正是这份综合实力，让它成为了新一代显示驱动的主流技术。

比如它的关态电流比非晶硅低 2–3 个数量级，能让屏幕在静态显示时把刷新率降到极低水平，大幅降低待机功耗，这也是手机息屏显示能保持长续航的核心物理基础。

同时它的电子迁移率能做到 10–50 cm²/V・s，足够撑起 4K、240Hz 甚至 8K 等高规格显示参数。更关键的是，这种技术可基于现有非晶硅产线进行改造升级，无需像新建 LTPS 产线那样投入数百亿资金，规模化落地的门槛更低。

比如它的关态电流比非晶硅低 2–3 个数量级，电子迁移率又能做到 10–50 cm²/V·s，足够撑起 4K、240Hz 等高端参数。更关键的是，这种技术它省钱，可基于现有 a-Si 产线改造，不用再砸几百亿建新线。

量产三道坎：横在实验室与产业化之间的鸿沟

实验室做出合格的样品从来不难，真正的门槛在于大规模量产，要保证长期稳定性、控制综合成本，还要支撑设备十几年的使用寿命，这三道关卡整整卡了行业十余年。

第一道坎来自材料本身的特性。氧化物半导体对光照、温度、湿度与长期偏压都十分敏感，工作中容易出现阈值漂移与图像残影问题，需要通过氮氧比例精准调控、界面钝化层设计、驱动电路补偿等多个环节协同优化才能解决。

第二道坎在于材料兼容性。高刷新率需要低电阻的铜布线来保障信号传输速度，但铜原子极易扩散进入氧化物层，污染有源区域，导致器件失效。必须在铜布线与氧化物层之间搭建致密的扩散阻挡层，才能解决这一问题。

最难的是第三道坎，大尺寸基板的良率控制。对量产线来说，90% 良率只是入门门槛，95% 才算优秀，达到 98% 以上才能具备规模化的商业价值。这是覆盖材料、工艺、全产业链的系统工程，也是京东方这项技术的核心突破所在。

在材料端，京东方通过优化铟镓锌元素比例、设计叠层结构、改进退火工艺，将氧化物迁移率提升至 30cm²/V・s 以上的高迁氧化物水准，同等性能下可以缩小 TFT 器件尺寸，让屏幕拥有更高的通透度与亮度表现。

工艺端，京东方突破了铜扩散阻挡层与铜 / 氧化物界面工程难题，成为国内最早实现 “铜布线 + 氧化物背板” 大规模量产的厂商之一。

在量产落地层面，南京 G8.5 全氧化物 TFT-LCD 产线已实现月产 6 万片玻璃基板的规模，公开数据显示其产能占到全球 IPS 技术氧化物 LCD 产能的约 20%，是国内氧化物 LCD 量产能力的核心标杆。

同时京东方也在 OLED 赛道同步布局。

旗舰手机常用的 LTPO 技术全称为低温多晶氧化物，核心是在 LTPS 驱动架构中引入氧化物器件作为开关管，利用氧化物超低漏电的特性实现 1Hz 低频刷新，技术名称里的 “O” 正是指代氧化物。京东方已实现 LTPO OLED 背板的量产出货，完成了 LCD 与 OLED 双赛道的技术覆盖。

国内产业矩阵：四条路线并行的集体突围

京东方并非孤军奋战，国内氧化物产业已经形成了分工清晰的发展矩阵，四条技术路径并行推进，各自锚定不同的主攻方向。

京东方走的是全尺寸全场景的平台化路线，用氧化物技术实现 LCD 的高端化升级，同时推动 OLED 背板的低功耗迭代。

TCL 华星聚焦 IT 赛道的性能突破，深耕高迁移率与低功耗技术，推出的分区分频驱动方案能将静态显示区域的刷新率降至 1Hz 以下，让办公场景的功耗下降 50% 以上，相关技术已经在荣耀平板等主流产品中落地。

惠科则主打大尺寸性价比路线，依托 8.6 代大尺寸产线将氧化物技术下放到主流显示器与笔记本产品；深天马则瞄准小尺寸高可靠场景，主攻车载、工控与医疗显示领域，能适应高温暴晒、低温冷启动、常年不间断运行的严苛环境，达到车规级标准，是国内车载氧化物面板的核心供应商之一。

根据公开数据估算，2024 到 2025 年，国内主要氧化物产线的量产面积同比增速始终保持在双位数水平，中国大陆已经成为全球氧化物 LCD 产能的核心中心，全产业链基本实现自主可控。

全球坐标系，中韩各有优势的赛道分野

放在全球产业坐标系里看，中韩两国在氧化物赛道上各有领先，形成了差异化的竞争格局。

韩国企业的优势集中在高端 OLED 领域。无论是 LG 的 WOLED 还是三星的 QD-OLED，氧化物背板都是其核心技术支撑。在器件可靠性的底层研究、大尺寸 OLED 的量产经验，以及上游材料设备的配套体系上，韩国企业比中国大陆早起步 5 到 10 年，这是历史积累形成的客观差距。

而中国厂商的领先，则体现在体量最大的主流赛道上。氧化物 LCD 的最大产能、最高良率与最快放量速度都集中在中国大陆，三星与 LG 已经基本退出或是大幅收缩了大尺寸 LCD 氧化物业务；在笔记本、平板、显示器组成的 IT 赛道，中国厂商更是氧化物技术渗透的绝对主力。

简单来说，在 OLED 背板这条最高端的细分赛道上，韩国企业仍有深厚的技术积累；但在氧化物 LCD 与 IT 氧化物这个体量最大的主赛道上，中国已经走到了世界第一。

更值得关注的是，这种领先并非单纯依靠规模与成本优势。从材料配方、器件结构到工艺路线、驱动方案，国内厂商已经实现了全链条的自主研发，上游的靶材、生产设备也在稳步推进国产化。和十年前 “采购日韩设备 + 进口日韩材料 + 本土组装” 的模式相比，早已是天差地别。

一场安静的中国智造升级

对普通用户来说，其实也可以通过产品定位，大致判断自己手中的设备是否采用了氧化物背板。

目前中高端 120Hz 以上刷新率的笔记本与平板，基本都搭载了氧化物背板，2000 元以上的办公显示器与电竞屏，也大多采用氧化物方案，中端高刷 LCD 手机中的主流机型也都使用了氧化物背板。

而所有旗舰 OLED 手机的 LTPO 自适应刷新率技术，核心都离不开氧化物背板，1 到 120Hz 的动态调节正是依托它实现，所有 OLED 电视，背板都必须采用氧化物 TFT。只有入门级电视与入门显示器，目前仍以传统的非晶硅方案为主。

一个更简单的判断标准是，只要设备支持 120Hz 以上高刷新率，或是支持动态刷新率调节，又或是采用了 OLED 屏幕，其背板大概率就搭载了氧化物 TFT 技术。

从国家层面而言，国家科学技术进步奖表彰的从来不是实验室里的发明，而是针对技术的产业化能力。

氧化物半导体并非中国原创，但把这项技术打磨成能支撑大尺寸、高刷新率、低功耗、低成本量产的成熟方案，并且在全球体量最大的显示赛道做到产能领先，是中国显示产业深耕十几年的成果。

它没有芯片领域的惊心动魄，也没有 AI 赛道的话题热度，但它却是一场典型的渐进式产业升级，它不颠覆 LCD 技术，却让传统 LCD 实现了高刷与低功耗兼得；它不替代 OLED 路线，却让 OLED 做到了低频常亮与长续航共存；它没有天花乱坠的概念，却把 “成本可控的下一代显示” 真正变成了触手可及的产品。

京东方这次获奖，与其说是某一家企业的胜利，不如说是中国显示产业整体从追赶到并跑、在部分赛道实现领跑的一个阶段性注脚。下次当你拿起手边的高刷手机、翻开轻薄的笔记本时，不妨留意一下屏幕的边缘，那层几乎看不见的氧化物薄膜里，真真实实藏着一场安静却扎实的中国智造的产业升级。