荷兰媒体：中国自研光刻机合情合理，但是西方企业对此产生了“恐惧”情绪

前沿导读

据荷兰媒体《新鹿特丹商报》新闻指出，投资者们对中国自主制造芯片设备的消息反应强烈，中国团队试图制造自己不允许被购买的设备合情合理，并且一直都有技术成果出现。

如今中国企业正在涉足光刻机整机的研发制造，这让西方企业产生了恐惧情绪，导致ASML在内的半导体企业出现股价下跌。

一旦中国企业自行制造这些设备，那么将会大幅度提升中国芯片的自主可控性，降低对海外技术的依赖。

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激烈竞争

ASML的EUV设备不被允许对华出口，DUV也被施加了一定的限制，但还可以继续为中国企业提供服务。

美国正在推动的match法案则进一步压缩中国芯片产业所能获取的设备范围，ASML有大约20%的营收来自于中国大陆市场，一旦法案正式实施，ASML在大陆地区的业务将出现停滞，这引起了荷兰政府的反对。

除此之外，苹果公司正在展开游说，希望与中国存储企业达成合作，缓解因存储芯片短缺所造成的硬件成本上升。

无论是荷兰一方的态度，还是苹果公司的游说，都表现出了中国市场以及中国企业在全球半导体产业链当中的重要地位。继续对中国产业实施制裁限制，影响的不仅是中国企业的发展，更是阻碍了国际产业链的经济合作。

match法案的限制标准空前的严格，中国本土两家大型的存储芯片制造商均被列为了全面制裁的对象，禁止ASML继续向长江存储、长鑫存储销售浸润式DUV光刻机，并且同步叫停ASML对此前已购设备的售后维护工作，试图用这种切断设备+切断维护的方法阻碍中国存储芯片的生产效率。

而苹果试图采购中国存储芯片的方案也遭到了美国议员的阻挠，美议员称苹果不应该在产品中搭载中国生产的存储芯片，哪怕是中国版的苹果产品也不行。

两家中国存储企业已经被美国列入清单当中，苹果使用中国芯片将存在“安全风险”，苹果应该明确承诺不采购中国芯片。

据《环球网》报道指出，反对苹果使用中国存储芯片的议员大多来自于纽约州、印第安纳州和爱达荷州等地，这些地区正是美光和SK海力士进行投资的所在地。

一边通过match法案封锁中国企业获得制造设备的机会，一边还阻碍美国企业与中国芯片厂商展开合作，这完全属于一种左右互搏的状态。

据媒体指出，苹果积极展开游说，希望通过与中国企业合作缓解成本压力。

而美光则是展开了与苹果公司截然不同的游说方向，要求阻止苹果公司与中国企业达成合作。这场游说战将会让美国部门在两个经济目标之间作出选择，一个是让消费者享受到低价的产品，另一个是提高本土芯片产能，减少对他国的依赖。

如今中美半导体产业都在追求一件事，那就是构建自主可控的本土芯片产业链。而中国企业所面临的最大问题，就是光刻机等先进设备的出口管制。除非全面放开限制，否则自研光刻设备是重点需要攻关的项目。

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技术替代

在先进光刻机领域挑战ASML的垄断地位，这已经不是新鲜事了。

尼康此前是ASML的第一竞争对手，甚至尼康具备光学镜头的制造能力以及浸润式光刻技术，要比ASML的综合自主实力更强一些。

但恰恰是因为尼康这种自研自产的技术模式，迫使ASML与台积电、蔡司等供应链巨头强强联合，先于尼康开发出了浸润式技术和EUV技术。

尼康也投入1000亿日元自研EUV光刻机，但是直到2018年都没有制造出一台达到标准的原型机，而此时ASML联合供应链已经完成了EUV光刻机的制造，成功进入商业化阶段。

市场会记住第一个“登顶”的企业，并且忽略第二个企业。

当ASML的EUV光刻机进入市场化阶段后，尼康的EUV项目已经被宣判死刑，尼康也因此宣布停止自主EUV设备的研发。

设备研发出来，最怕的就是没有客户使用，更何况是EUV这种技术难度大、投入资源多、研发时间长的设备。ASML造出了EUV，需要EUV的客户都在第一时间选择购买ASML的设备，而尼康的产品就算造出来，也会在市场上预冷。

但是中国企业自研光刻机的背景与尼康不同，尼康怕的是没有客户买设备，而中国企业则是为了客户需求而研发光刻机。

美国的出口管制让中国企业无法顺利获得进口设备，也让中国芯片制造技术停留在7nm节点徘徊，急需EUV光刻机让中国自主芯片下探到更先进的水平。

《环球网》此前发布过一篇针对外媒报道的文章，中国研发光刻机设备从来就不是在封闭环境中构建一个自给自足的“技术孤岛”，而是在实现关键技术自主可控的基础上，更深度、更平等地融入并贡献于全球创新网络。