湖南
咱们都知道，因为美国的禁令，EUV光刻机买不到了。
这东西是啥？简单说，就是做7nm以下芯片的必备设备。没有它，按照传统的光刻思路，想进7nm以下的圈子，基本没戏。
有人可能会说，7nm、10nm也够用了吧？但说实话，工艺越先进，芯片性能越强，功耗越低，这是明摆着的事。像AI、手机芯片、CPU这些，谁不想往更先进的工艺上走？
可EUV被卡住了，怎么办？原来的办法是把晶体管做小，物理上微缩，现在这条路走不通了，那芯片工艺还能怎么往前挪？
华为给出了一个答案，叫“韬定律”。说白了，就是用逻辑折叠技术，拿时间微缩来替代物理微缩。用DUV光刻机，基于7nm的工艺，通过结构改进、立体排列这些办法，硬是让7nm的芯片，做出了等效3nm的水平。
这意味着什么？意味着没有EUV，照样能通过结构创新，推着工艺往前走。这也给别的厂商指了另一条路。
最近发现，国内最强的内存厂商长鑫，好像也搞出了自己的“韬定律”。具体工艺不太一样，但逻辑是通的。
内存和逻辑芯片不一样。逻辑芯片全是晶体管，内存是靠电容存电荷来记数据的，最基本的结构是“1个晶体管+1个电容”。如果有EUV，那简单，把晶体管尺寸缩小就行，一个存储单元占的面积就小了，存储密度就上去了。
那没有EUV呢？怎么让这个基本单元缩小？长鑫的办法是把晶体管垂直排列起来，省面积。
传统的平面型晶体管布局，叫6F²结构，晶体管是平躺着的，占地方。而长鑫把它竖起来，叫4F²结构，一个存储单元只占4个空间，原来要占6个。相当于省了三分之一的地儿，存储密度直接提了50%。
基于这种4F²结构的内存，长鑫今年就可能量产上市。而三星同样的技术，可能要到2028年才上市。所以韩媒自己都认为，三星在这一块上，落后了长鑫两年。
从技术原理上看，这其实也是类似于“韬定律”的一种思路——不跟你拼物理微缩，而是通过结构创新，把存储密度提上去，让芯片性能往上走。
你看，没有EUV，不管是逻辑芯片还是存储芯片，都能通过其他技术、结构上的创新，推动技术进步。都有可能研发出属于自己的“韬定律”，绕开EUV。
这条路不好走，但走通了，就是另一片天地。
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