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几乎所有人都已经看到,我们正处于一个新技术革命的前夜,摩尔定律即将被半导体行业的发展颠覆。但是,你知道国外的投资者和巨头,正在干什么?
他们正在打破摩尔定律,把晶体管密度提升,转向3D晶体管、背面供电与多元新材料的组合创新。
这就是物理和材料层面的改进,这才是黄仁勋说摩尔定律已失效,AI时代,AI进化是摩尔定律的100万倍的原因。
什么叫物理层面的改进?过去,像材料、耗材、基板、特种气体、化合物半导体这些,都被视为芯片的配套环节,无非就是适应不同制程的改进,但是从2026年下半年起,要进行小规模量产,2027年开始,新技术和新材料将进入放量期,全方位颠覆半导体行业。
什么新技术呢?目前已知的是,背面供电、晶圆键合NAND、玻璃核心基板、光子SOI,全部是从结构和材料级别的创新。这种材料级别的创新,将会跟现有的芯片形成代差,意味着现在的大部分所谓的光产业和半导体产业,可能会被抛下,连光刻机都会被动升级。
这将是从2027年开始的全面技术爆发,这是结构、封装和材料的同步大升级:
● 背面供电技术需要把两片晶圆叠加,研磨减薄晶圆的需求会全线暴涨;
● 光刻胶的革命。下一代高NA EUV光刻机价值4亿美金一台,且不说买不买得到,即使买到,也用不了,因为新光刻机要求光刻胶必须做薄,传统光刻胶根本无法适用,能适用的只有新的金属氧化物光刻胶,这种光刻胶会卖到1w-4w美刀/加仑,是传统光刻胶的2倍到8倍;
● 光子SOI。过去所有半导体材料中,有一种最稀缺的材料,就是磷化铟,它是所有芯片和毫米波雷达的核心衬底材料,这是真正的卡脖子材料,全球供应非常紧张,订单排到了2028年,而光子SOI,成本只有磷化铟的四分之一,等到2027年量产以后,全球的光模块产能将被释放,这玩意也会迎来爆发式增长。
● 玻璃基板。传统硅基板已经达到物理极限,随着AI芯片越来越大,台积电已经确定了,2026年开始量产玻璃基板,比预期提早了两年,英伟达AMD几个芯片巨头都会跟进。
目前来看,能在下一代颠覆浪潮中继续卖铲子的还是只有台积电,国内就是咱们提过的唯一真神,至于其他,很多人很多公司,都宣布自己是光,但是,光里,没有它。
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