湖南
芯片走到2nm，很多人心里都冒出一个问号：摩尔定律是不是快到头了？
这个担心不是没道理。摩尔定律说白了，就是靠晶体管不断物理微缩，让芯片越来越小、越来越强。
但物理微缩不是没有极限，原子本身也有大小，不可能无限缩下去。一旦这条路走不动，现有的光刻生态就可能面临大洗牌。
因为现在的芯片制造，基本都建立在光刻工艺上。光刻工艺干的事，就是不断提升分辨率，把晶体管越做越小。
如果这条路断了，整个光刻体系都会受到冲击。所以在这件事上，ASML可能是最不想看到摩尔定律失效的企业之一。它比谁都希望这条路还能继续往前走。
过去10多年，ASML已经推出两代EUV光刻机：从Low NA EUV到High NA EUV。最直接的变化，就是NA从0.33提升到了0.55。NA就是数值孔径。这个值越大，进入透镜的光线越多，功率也越大，分辨率就越高。
但提升NA非常难。Low NA EUV一套大概1亿多美元，到了High NA EUV，NA只提升了0.22，价格却变成4亿美元一套。贵得不是一点半点。可就算有了High NA EUV，按照ASML的预计，大约也只能制造出0.7nm等效芯片。到了0.7nm之后，可能又不行了。那摩尔定律是不是又要“死”一次？
ASML当然不希望这事发生。最近又曝光了新一代EUV光刻机，叫Hyper NA EUV。它还是采用13.5nm的紫外线光源，总体结构和High NA EUV差不太多，很多元件还能通用。最大的区别，就是把NA提高到了0.75，所以才叫Hyper NA。
按照说法，Hyper NA可以实现约5纳米的光学半间距分辨率，为未来更先进的逻辑芯片和存储芯片制造提供支持。
这里要注意，这个5nm是指半间距，和平时说的5nm芯片不是一回事。它的意义在于，可能不用多重曝光，就能直接光刻1nm以下的芯片。多重曝光少了，工艺步骤和成本压力就有机会降下来。
不过，这一代Hyper NA EUV预计要到2036年才能推出，还有10年之久。为什么要提前10年就公布？原因也不难理解。ASML要告诉大家：摩尔定律没有死，我的EUV光刻机之路还没断，大家放心吧。
当然，也有人预计，就算这种光刻机真的造出来，价格可能会高达6亿到8亿美元，一般企业根本买不起。但这都是10年后的事情。至少现在，ASML给了那些依赖光刻机、信奉摩尔定律的芯片厂商一个希望。
所以，摩尔定律到底死没死，短期很难一句话说清。ASML拿出的不是一台现成机器，而是一张时间表。它告诉整个行业：别急着散场，下一台光刻机还在路上。只是这个希望，不便宜，也要等很久。
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