北京
【CNMO科技消息】苹果正在开发用于下一代OLED面板的高迁移率氧化物（HMO）技术，在成膜方式上，目前优先考虑的是溅射工艺，最终的量产方案尚未敲定。据外媒报道，三星显示与LG显示两家面板厂都在同时推进溅射与原子层沉积（ALD）两条路线。
OLED
从技术特性看，ALD在薄膜精度和特性控制上更有优势，但设备和材料成本偏高；溅射则可以直接沿用现有OLED产线的设备，成本压力小得多。苹果因此更倾向于先评估溅射方案的可行性。HMO被视作未来MacBook、iMac等高分IT用OLED的候选技术。目前高端OLED普遍采用LTPO，即硅与氧化物半导体混用；如果HMO的性能足够高，部分硅工序就可以被氧化物替代，制程随之简化，生产成本也能降下来。
三星显示在开发溅射HMO的同时，也在验证ALD路线，重点是确认苹果要求的电子迁移率和可靠性，能否在大尺寸基板上同样成立。据报道，苹果先在自己的台湾研发设施内评估了相关技术，随后请三星显示确认其能否应用于第8代级别的大面积产线。
LG显示则在第6代中小尺寸OLED产线上开发溅射HMO，ALD研究同步进行。去年该公司用ALD制备的氧化物TFT实现了约40㎠/Vs的电子迁移率，并展示了对应的OLED试制品。但考虑到新增设备投资带来的负担，LG显示同样更看重复用现有溅射设备的方案。
图源网络
HMO的本质是提升OLED中薄膜晶体管（TFT）的性能，后者负责控制每个像素的开关与亮度。现有氧化物TFT的电子迁移率在10㎠/Vs上下，HMO的目标是做到30至50㎠/Vs。迁移率越高，能供给的电流越大，越有利于实现高分辨率和高刷新率画面。难点在于，器件阶段达标还不够，经过多道制程、经受温度与光照之后，成品面板仍要维持住这一特性。
一位业内人士表示，两家公司都在以溅射为优先、同时研究ALD，“ALD的性能优势在研究阶段已经得到验证，但出于成本考虑，看起来还在溅射上做更多试验”。
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