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参考来源:央视财经报道
所有人都在盯着光刻机,却很少有人知道,在刻蚀机这个同样决定芯片生死的核心领域,其实我们不仅彻底打破了海外垄断,还首创了全球通用的核心技术,让泛林、应用材料、东京电子这些曾经不可一世的行业霸主,全都乖乖抄起了我们的作业。
5月17日在《央视财经》播出的“对话”中,中国刻蚀机之父尹志尧表示:中微公司首创的甚高频去耦合反应离子刻蚀技术,三年后被国际三大设备公司全部效仿,现在全球100%的CCP(电容耦合等离子体设备)刻蚀机都采用这一技术。
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而创造这个奇迹的,就是今年82岁的尹志尧。
谁能想到,如今市值突破2714亿元、设备打进台积电3nm先进制程的中微公司,是尹志尧在60岁那年,放弃美国百万年薪,带着一群工程师用空白电脑从零开始建起来的。
当年他从美国回国,所有员工不许带任何技术文件,连电脑都是空的,真正是白手起家。那时候全球刻蚀机市场被三家海外厂商牢牢把控,没人相信中国人能造出顶尖的刻蚀机,更别说首创什么核心技术。
尹志尧先生凭借资深的专业能力,带着团队死磕了三年,搞出了甚高频去耦合反应离子刻蚀技术。
这项技术有多厉害?它直接解决了传统刻蚀机精度不够、效率低下的难题,让芯片刻蚀的精度和良率都上了一个大台阶。
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三年之后,国际三大设备厂商全都开始效仿这项技术,到今天,全球100%的电容耦合等离子体刻蚀机,用的都是中国人首创的这套技术。
除此之外,中微首创的双台机设计,能同时刻蚀两片硅片,直接节省大量的材料成本,性能还比进口设备更好,价格却便宜一大截。
中微的第一台设备,是张汝京博士带头在中芯国际试产的。那时候没人敢用国产设备,张汝京顶着巨大的压力做了第一个吃螃蟹的人,结果一试就成了。
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正是这次成功,给了中微走出国门的信心,一步步打进了台积电的供应链,从28nm到7nm,再到现在的5nm、3nm,中微的刻蚀机已经成了台积电先进制程产线上不可或缺的核心设备。
更厉害的还在后面。
中微决定进军大平板设备领域,这个领域此前有17种工艺设备全部依赖进口,一台设备重达150吨,有两层半楼高,业内普遍认为开发这样的设备至少需要3到7年。可中微的团队只用了12个月就做出了可运转的样机,不到4个月就达到了客户下一代产品的要求,18个月就把设备运到了生产线上并通过核准,再次创造了中国速度。
很多人总觉得中国半导体只能跟在别人后面跑,可尹志尧和中微的历程说明,中国人不仅能追上,还能领先,还能让别人抄我们的作业。
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刻蚀机不是个例,在刻蚀、沉积、清洗等多个半导体设备环节,我们都已经实现了关键突破,国产设备的整体自给率正在以每年10个百分点的速度提升。
尹志尧今年已经82岁了,他用22年的时间,把一个从零开始的小公司,做成了全球顶尖的半导体设备巨头,还恢复了中国国籍。没有什么技术是中国人搞不出来的总有一天,我们会把所有卡脖子的环节,一个个变成我们的长板。
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