前沿导读
据《观察者网》指出,针对中国自研光刻机是否会撼动ASML在高端设备的垄断地位时,荷兰驻韩大使范德弗利特表示,全球多个地区都在布局光刻技术研发,这是科技发展竞争中的常态。因此,我不会单独针对中国,各地都在角逐下一代设备与技术。
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参考资料:
张菁娟,公众号:观察者网荷兰驻韩大使:全世界都在努力研发光刻技术,不针对中国
02
各凭本事
此前研发光刻技术的厂商高度集中于欧洲和亚洲,欧洲是ASML一家独大,并且全球顶级供应链都为ASML服务。而亚洲则是日本的佳能、尼康以及中国企业。
光刻机最早也叫“曝光机”,其光刻技术概念是由美国德州仪器工程师莱斯罗普发明并申请技术专利。光刻机最初的技术巨头是美国GCA(地球物理公司),其次是美国的P-E(珀金艾尔默)。
GCA在1978年推出了世界上第一台商用级别的分布式投影光刻机DSW4800,该设备的出现开启了光刻机产业和芯片规模化生产的时代。
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但是后来尼康和佳能顺势崛起,这两家美国光刻机厂商要么被收购,要么砍掉光刻机业务。
最后一家拥有光刻机制造能力的美国企业是SVG(硅谷集团),但是该公司在2001年被ASML全资收购。ASML完成收购之后,美国本土的光刻机产业彻底消失,相关技术专利也顺势融入了ASML的技术体系当中。
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2021年,一家名为XLight的美国半导体公司创立,由英特尔前CEO帕特·基辛格担任执行主席。该公司的主要业务是开发EUV光刻机的电子激光器,已经与ASML达成合作,并且获得了美国部门的大力资助。
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2022年,另一家涉足光刻技术的美国企业Substrate创立,该公司将研发X射线光刻技术,试图基于该技术开发新光刻机并建立适配晶圆厂降低先进芯片的制造成本。
相比XLight,这家美国企业更像是ASML的竞争者。不但要开发全新技术的光刻机,还要建立配套的制造工厂,相当于是同时叫板ASML和台积电。
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尽管这两家企业“声势浩大”,但是目前并未真正冲击到ASML的技术生态链,全球大部分先进芯片的量产还是以ASML设备+台积电的组合进行制造。
韩国三星也具备先进逻辑芯片的制造能力,但是其高度依赖ASML的设备,韩国本土也并没有涉足光刻机技术的企业,韩国在先进设备的竞争当中已经出局。
日本在光刻机产业的规模仅次于荷兰ASML,并且尼康和佳能走的是两种不同的技术路线,尼康的先进设备是传统的浸润式DUV光刻机,而佳能的先进设备则是纳米压印机。
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佳能已经完全放弃了在浸润式技术上面的研发,专心搞干式DUV技术以及纳米压印技术。而尼康虽然有浸润式技术,但是其设备水平无法与ASML竞争,导致尼康现在的光刻机业务亏损严重。
而我国的光刻产业则是吸纳了以上所有厂商的经验,采用多路并进的方法进行技术尝试。
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我们既跟ASML和尼康一样走传统技术路线,从干式DUV技术开始,一路延伸到EUV技术,又尝试跟佳能一样开发纳米压印技术。位于杭州的璞琳科技,是我国纳米压印技术的先锋企业。
在光刻技术领域,ASML想要继续巩固领先地位,美国企业想要尝试建立本土光刻技术产业,日本企业有技术底蕴但是业务比较低迷,而中国企业的发展势头最为强烈。
03
持续施压
芯片供应链的全球化分工是整个产业正常发展的结果,美国则是持续对海外企业施压,禁止其将先进制造设备销售给中国大陆企业。这不但对中国企业不公平,而且引发了许多海外企业的一致反对。
ASML两任CEO均对出口管制提出反对意见,认为这样会逼迫中国企业研发自主设备。就算要进行限制,也要掌握平衡,适度向中国市场输出技术产品。
ASML现在对华销售的产品都是10年前开发出来的技术设备,如果技术差距被拉得太大,那么会激发起中国自主研发的技术自信心。
微软创始人比尔·盖茨也对出口管制持反对态度,认为该措施只会起到相反的效果,华为和deep seek就是两个典型的例子。
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正在推动的match法案,则是进一步要求ASML在光刻机领域实施出口管制,并且叫停中国设备的售后服务政策。
该法案的规定无异于是让ASML中国区业务濒临清零状态,这也引起了荷兰方面的重视,荷兰大臣展开游说,试图阻止该法案的推进,保护ASML在中国区的运营体系。
不过据分析人士指出,荷兰阻止该法案推进的可能性很小,因为ASML过于依赖美国供应商,这让其处于被动局面。
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ASML的设备依赖美国技术体系,荷兰方面的游说效果又不好,在这种多方面因素的情况下,中国企业研发自主可控的制造设备是最稳妥的方案。
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