荷兰记者：复制ASML不是中国的答案，他们在走自己的路

一台光刻机，到底有多难？答案不言而喻。

有人把它形容成工业皇冠上的明珠，也有人说，它是人类制造过的最复杂机器之一。而在这场全球芯片产业的较量中，荷兰ASML无疑站在了最高处。

但近年来，一个有意思的问题正在浮出水面：如果中国拿不到ASML的光刻机，能不能自己造？

我们先别急着谈国产替代，先认清一个事实，ASML今天的地位，绝不是凭运气得来的。上世纪80年代，这家公司还只是荷兰一家不起眼的半导体设备企业。40多年之后，它成为全球最重要的光刻机供应商之一。尤其是在EUV领域，ASML目前仍然是全球唯一能够实现商业化量产的供应商。ASML自己也明确表示，在EUV光刻技术领域，它目前是唯一能够生产相关设备的企业。

更重要的是，EUV并不是ASML一个人闭门造车造出来的，它背后站着一整套全球产业体系：德国蔡司负责关键光学系统，美国、欧洲、日本等地拥有大量核心供应商，还有激光、真空、精密运动控制、测量、材料等众多环节。

把全世界大量顶尖企业组织到了一台机器里，这才是ASML真正厉害的地方。

2019年，ASML正式宣布EUV进入客户的高量产芯片制造阶段。从研发到商业化，EUV经历了长达约20年的发展历程。所以，一台光刻机看起来是一台机器。实际上，它更像是一座工业生态城。

芯片工厂就像一家面包店。面包店里最重要的工具是烤箱，而芯片工厂里，光刻机就是那台“烤箱”。但如果有人把烤箱拆开，把所有零件都摆在你面前，你就一定能够造出一台同样的烤箱吗？显然不是。光刻机也是如此。即使你知道光刻原理，即使你拥有相关材料和零部件，真正把它们组合起来，让它们在纳米尺度下长期稳定工作，仍然是一个巨大的工程问题。

ASML的设备由大量复杂部件组成，ASML花了接近40年才建立起今天这样的技术体系。这也是为什么，“逆向工程”听起来很容易，真正做起来却极其困难。它同时涉及光学、激光、精密机械、真空、电子控制、软件、材料、计量检测等多个学科。一面镜子的误差、一套运动平台的振动、一个控制算法的延迟，都可能影响最终的晶圆结果。所以真正的技术壁垒，很多时候并没有写在图纸上。它藏在几十年的经验里，藏在无数次失败中，藏在工程师的直觉里。

这恰恰是这场竞争最值得思考的地方。中国如果只是想着：“把ASML原封不动复制一遍。”那确实是一条极其漫长的道路。因为ASML已经在这条道路上走了40多年。但如果问题换成：中国能不能建立自己的光刻技术体系？答案就完全不同了。

事实上，中国正在做的事情，本身就不只是简单复制。以国产DUV为例，中国企业正在推进不同技术路线的研发；与此同时，国内高校、科研院所和产业链企业也在光源、光学系统、精密运动平台、控制系统等多个环节持续投入。加重要。

2019年以来，ASML的EUV设备销售中国就已经受到限制。2023年，荷兰政府进一步扩大了半导体设备出口管制范围，ASML最先进的浸没式DUV设备也需要申请荷兰政府出口许可证。过去，中国企业可以用全球化供应链解决的问题，现在越来越需要自己寻找答案。

但历史往往就是这样。当一条路被堵住之后，真正的技术突破反而可能开始出现。中国芯片产业过去几十年最大的变化，就是从“买设备、买材料、买技术”，一步步走向“自己研发、自己制造、自己配套”。

必须承认，差距依然存在。尤其是在先进光刻机领域，中国与ASML之间仍然存在明显的技术和工程积累差距。光学精度、光源稳定性、套刻精度、生产效率、可靠性，以及整机系统长期运行能力，都不是短时间能够补齐的。更不用说光刻胶、掩膜版、光学元件、计量检测设备等上下游产业。但是中国正在把原来一个个孤立的技术难题，变成一个完整的产业问题来解决。

ASML用了40多年，才从一个不起眼的荷兰小公司走到今天。中国不可能用几年时间，把别人40年的积累全部压缩掉。但我们有自己的优势：庞大的市场，完整的制造业体系，数量庞大的工程师队伍，以及在外部压力之下越来越强烈的自主可控需求。这些东西组合起来，会产生什么结果？没人能够准确预测。

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