相比中国芯片突破封锁，西方更害怕突破封锁后引发价格崩盘。而西方唯一能做的，就是继续实施限制

前沿导读

7月份，美国科技媒引述消息称中国已经启动国产浸润式DUV光刻机的量产工作，该信息引起了国内外舆论哗然。光刻机巨头ASML受到冲击、美国对华实施的技术封锁面临失败，这些话题都被摆在台面上进行讨论。

轻视对手

此前行业内有一则老生常谈的内容，上海微电子公司董事长贺荣明先生在公司创办早期带队去国外学习，为国产光刻机的发展储备力量。

但是当贺荣明先生对国外专家表达了要造光刻机之后，国外专家则表示就算给全套图纸，中国团队也无法造出来。这其中既包含了对中国技术的贬低蔑视，也包含了海外人员对于自身技术能力的高度自信。

荷兰ASML可以造出商业化的先进光刻机，追根溯源就是吸纳了全球顶级资源完成了技术项目。

ASML在2001年全资收购了美国硅谷集团（SVG），将美国光刻机技术收入囊中，同时也获得了一些与EUV有关的技术专利。

在美国技术体系和全球超5000家供应链的支持下，ASML开发出了浸润式DUV光刻机领先尼康和佳能，随后又制造出EUV光刻机彻底统治市场。

要知道，ASML最早期只是荷兰飞利浦旗下的一个部门，并且飞利浦很厌恶这个部门，因为这个部门经常拿钱搞研发造光刻机，但是造出来又没几个客户买，几乎都是飞利浦内部消化了。而美国GCA、P-E公司制造的光刻机已经销往全球，这让飞利浦愈发地不待见光刻部门。

随后该部门从飞利浦独立出来，与荷兰设备制造商ASMI合资成立了光刻机企业ASML。

如果不考虑ASML后来的成就，那ASML刚创立的时候就是一个被母公司唾弃的技术部门。赶紧把部门独立出来，生怕该部门天天亏钱造设备，从而影响母公司飞利浦的整体财报。

美国GCA是最初的光刻机市场霸主，随后被日本的尼康和佳能反超，紧接着就是ASML联合台积电开发浸润式光刻机异军突起，最后凭借着EUV光刻机成为产业龙头。

对于科技企业来说，轻视竞争对手的下场往往都很惨。

几十年前日本依靠着举国之力成为了半导体强国，日本相机、日本收音机、日本随身听都是风靡全球的科技产物，同时也大量进入美国市场。

在这个背景下，日本官员石原慎太郎联合索尼创始人之一的盛田昭夫合著了一本名为《日本可以说不》的书籍。

书里面表示日本半导体技术强大，甚至美国市场都喜欢日本的技术产品，所以日本科技企业有底气对西方的部分要求说不。该书籍一经发售就引起轰动，同时也引来了美国对于日本科技产业实施的制裁限制。

日本的许多工业和科技产品确实卖的不错，但是这并不能成为日本科技产业狂妄自大的底气。

被美国制裁之后，日本在半导体领域的优势只剩下设备材料等供应链体系外加上铠侠的闪存芯片，日本已经没有本土设计的先进内存芯片和逻辑芯片，并且日本手机产品也都依赖于高通骁龙芯片。

光刻机等芯片制造设备、人形机器人产品、无人机产品、ai大模型、存储芯片，这些技术都是西方国家对我们严防死守并且持续制裁的产业。尽管我国在这些领域的技术水平和产业竞争力越来越强，但西方仍然不死心，想尽一切办法来压制我们的技术发展。

技术主导

巨头垄断市场、中国实现突破、产业价格下降，这个情况已经出现过多次了。

圆珠笔的笔尖钢材、碳化硅芯片、成熟工艺芯片都是因为国产技术突破从而把价格拉了下来。现在这个势头已经从芯片产业，逐步过渡到人形机器人和开源大模型领域。

台积电前研发副总裁林本坚此前在接受采访时指出，我们不断地逼迫中国企业更加努力的去搞技术研发，说不定以后大陆企业就想到一些新的技术办法，将我们过去做5nm、3nm芯片的难度去掉，那么到时候台积电就有些麻烦了。这些国产技术的市场化表现好，价格又便宜，就如同deep seek一样将大家全部吓一跳。

deep seek的出现，绝不是意味着中国企业发布了一款效率高的ai大模型软件，而是让国际层面看到了中国企业哪怕是在被封锁的前提下，也可以通过创新实现技术追赶。在芯片等硬件层面固然与西方一流企业存在差距，但是这并不意味着中国企业“原地踏步”。

光刻机作为芯片制造的核心设备之一，我国已经在这个领域发展了20多年，并且掌握了干式DUV光刻机的自研能力。如今在浸润式DUV领域有所技术突破，这完全合情合理。

ASML也不是一上来就称霸市场，客户们对于ASML的机器并不感兴趣，连带着母公司飞利浦也嫌弃这个只会大手大脚花钱的部门，像个“烫手山芋”一样被飞利浦独立了出去，但ASML依靠着持续发展和历史机遇最终成为了产业龙头。

既然ASML能成功，那具有光刻机技术基础的中国企业能成功突破封锁也不是什么新鲜事。一味地对中国科技产业实施压制，只会迫使中国本土技术报团取暖。